磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别?
最佳答案：楼主概念不对膜层一般为蒸发镀膜、溅射镀膜、喷涂镀膜、电离镀膜等方法.溅射镀膜过程中,在靶与基体之间形成了含有离子、电子、中性原子团组成的对外显中性的气体,这就是
真空集热管镀膜问题1：磁控溅射镀膜时,工作温度在多少度?（指镀膜室内）2：真空集热管的镀膜层怎么分类的?（注：由里到外是
最佳答案：1.磁控溅射,镀膜室温度基体温度越高膜层附着力越好.但是,工作过程中,基体温度不可以太高.但是一般不会超过70度.镀膜线一般50-60度.镀膜室一般35-50度
给出真空镀膜机的炉径和高度,给出所镀产品的尺寸,产能怎么算?（电阻蒸发,电子枪蒸发,磁控溅射）
最佳答案：如：产品的宽一圈可以挂6个,产品的高可以挂14个,一炉有8个挂杆,20分钟一炉,一个小时就3炉,那就是6*14*8*3=1小时是2016PCS了.