光刻胶
光刻胶在曝光后其成分会发生改变,而这些成分在低浓度的强碱中的溶解速度是不同的.控制好光刻胶在强碱溶液中的时间,就能改变光刻胶的分布情况,为下步蚀刻做准备.
光刻胶
光刻胶在曝光后其成分会发生改变,而这些成分在低浓度的强碱中的溶解速度是不同的.控制好光刻胶在强碱溶液中的时间,就能改变光刻胶的分布情况,为下步蚀刻做准备.
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