解题思路：A、单质硅可以制造制造计算机芯片，SiO2可以制造光导纤维；
B、硅是亲氧元素，在自然界以化合态形式存在，多以硅酸盐或二氧化硅的形式存在；
C、强酸制弱酸是在常温条件下进行的；
D、SiO2是非金属氧化物，除了HF，不与其他任何酸反应；
A、单质硅可以制造制造计算机芯片，SiO2可以制造光导纤维，故A错误；
B、硅是亲氧元素，在自然界以化合态形式存在，多以硅酸盐或二氧化硅的形式存在，故B正确；
C、强酸制弱酸是在常温条件下进行的，在高温下不能比较，故C错误；
D、SiO2是非金属氧化物，能与HF反应：SiO2+4HF═SiF4↑+2H2O，故D错误；
故选：B．
点评：
本题考点： 硅和二氧化硅．
考点点评： 本题考查硅以及二氧化硅，明确二氧化硅的性质是解答本题的关键，注意硅及其化合物的用途，题目难度不大．
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